一、标准编号及标准名称
由中国国际科技促进会归口管理，上海大学提出的《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》团体标准，于2025年9月1日正式发布实施，标准编号为T/CI 1158—2025。
二、标准制定背景
（1）国内半导体与微电子发展的需求
为了解决芯片卡脖子的问题，国内的半导体和微电子产业快速兴起，在这些领域中，光刻机起着极为关键作用。作为光刻机 "心脏"，纳米精度运动平台提供纳米级定位精度和亚毫秒级响应， 24 小时连续工作稳定性，避免机械振动影响光刻精度，洁净环境无颗粒污染的优点。可以更好的服务半导体与微电子制造领域。
（2）纳米精度运动平台技术的兴起
纳米精度运动平台的兴起契合制造业精密化、柔性化升级需求，凭借无接触、纳米级精度、多自由度运动等核心优势，从实验室逐步落地半导体光刻、医疗设备、新能源电池制造等高精尖领域。国内企业突破技术垄断实现商业化，在政策与资本加持下市场规模持续扩容，正从高端制造向更多场景渗透，成为智能制造的核心动力之一。
（3）市场需求与技术空白
随着纳米精度运动平台技术的广泛应用，市场上出现了多种不同行程、不同精度的纳米精度运动平台产品。纳米精度运动平台市场需求旺盛，尤其在半导体、医疗、新能源等高端制造领域，但核心技术仍受制于人。当前控制算法解耦、高精度检测和专用芯片是最主要技术空白，制约着国产化进程和市场渗透。
三、标准制定的必要性
纳米精度运动控制平台作为国家科技战略布局中的关键一环，已上升为国家的重要发展目标。研究表明，运动控制精度和稳定性往往是制约半导体制造业向更低纳米制程发展的核心因素。因此，研发高性能的纳米精度运动控制平台，对推动我国集成电路和半导体行业的技术进步具有重大意义。
为提高制造设备的定位精度和动态响应性能，以先进控制算法和高精度执行机构为核心的纳米精度运动控制平台应运而生，旨在为低纳米制程工艺的实现提供强有力的技术支撑。然而，目前针对综合高精度运动控制与先进控制技术的专利研究仍然较少。同时，国内现行的集成电路和半导体行业运动控制平台设计标准尚属空白。
因此，编制《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准，可以有效弥补现有标准中关于纳米精度运动控制平台设计和技术要求的缺失，为行业提供统一的技术规范，促进我国半导体设备的自主创新和技术升级，提升国际竞争力。
四、编制过程
（1）标准编制工作启动
在接到标准制定任务后，标准主起草单位结合前期调研成果，编制完成标准初稿，项目承担单位于2024年10月组织召开标准启动会议，成立标准编制工作组，明确各单位职责分工和人员安排，并制定详细的编制计划，全面启动标准编制工作。
（2）标准草案编写
2024年10月，召开第一次工作组会议，围绕标准初稿的适用范围、结构框架及技术条款进行集中研讨，初步确定标准草案的核心内容，会议期间及会后，各参编单位对标准文本进行了深入研究，提出修改意见或建议。在此基础上，主起草单位进一步开展调研工作，对标准草案进行修改完善。
（3）公开征求意见
2025年4月到5月在行业内公开征求意见，共收到7家单位的16条修改意见，全部采纳。据此对标准草案进行修改完善，形成送审稿。
（4）标准评审
2025年7月16日召开团体标准专家评审会，对标准送审稿进行审查，按照专家意见对标准草案和编制说明进行了修改完善，形成报批稿。
（5）标准报批发布
2025年9月1日正式发布实施，标准编号为T/CI 1158—2025。
五、标准主要内容
本标准依托上海大学力学与工程科学学院等技术团队，在中国国际科技促进会的指导下，联合进行研究与技术攻关，首先提出了智能主动运动控制平台的设计理念，在传统高刚度结构的基础上引入先进的控制算法和高精度传感器系统，进一步提升了系统的自适应能力和控制精度。
《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准的制定，填补了国内在半导体集成电路用运动控制平台设计方面的行业标准空白。标准内容基于团队多年技术积累与工程实践经验，充分体现了当前领域的最新研究成果与应用需求，确保了其先进性和可操作性。通过本标准的实施，将为我国集成电路和半导体行业提供统一的技术规范，促进设备性能的提升和技术的自主创新，增强我国在全球半导体制造领域的竞争力。
六、标准实施效果和意义
（1）纳米精度运动控制技术的实验验证
纳米精度运动控制技术已经在实验室进行了全工况测试，技术成熟度较高，可以作为未来技术发展的基础。在该项技术基础上，制成了首台多自由度纳米精度运动控制平台。经测试，该平台的定位精度可达纳米级别，动态响应速度快，稳定性良好，达到国际先进技术水平。对比现有产品，本项目产品在控制精度、高速响应和多自由度协调控制方面具有显著优势，能够在复杂的集成电路和半导体制造环境中稳定运行，显著提升了生产效率和产品质量。
（2）系统集成与兼容性
平台的模块化设计和易维护性使其在不同制造设备中的集成更加便捷，减少了设备的停机时间和维护成本。通过标准化的设计和技术要求，确保了不同设备之间的兼容性和一致性，进一步提升了整体生产线的协同效率和智能化水平。
（3）性能对比与市场竞争力
本项目产品控制精度高、响应速度快、稳定性强，具备良好的市场竞争力。通过与国内外同类产品的对比分析，发现本项目产品在纳米级定位精度、多自由度控制能力和系统稳定性方面均优于现有市场产品，填补了国内在高精度运动控制平台领域的技术空白，具有广阔的应用前景和市场潜力。
七、预期的经济效果
主要起草单位在光刻胶检测装置、曝光装置、封装光刻机等多个关键应用场景中成功应用并测试了纳米精度运动控制平台技术，深入探索并掌握了该技术的关键问题与参数，积累了丰富的实践经验。这些成果为制定《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准提供了坚实的技术基础和有力的参考依据。通过标准的实施，制造设备的定位精度和稳定性将显著提升，促进技术创新与自主研发，推动产业链上下游企业的协同发展，提升国产高精度运动控制设备的市场竞争力，扩大其在国内外市场的份额。同时，标准化的设计和技术要求将有效降低研发和生产成本，减少试错成本，提升生产效率，增强企业在全球半导体制造领域的竞争力。
此外，本标准的制定和推广将支持国家战略目标，推动我国半导体产业的技术进步和自主创新，减少对国外先进设备的依赖，提升国际市场话语权。通过规范产业发展和引领技术创新，促进相关科研机构和企业的技术交流与合作，加快科技成果的转化与应用，带动相关产业链的发展，创造可观的经济效益。这不仅有助于提升我国在全球半导体制造领域的地位，还将推动相关产业的可持续发展，实现高质量的经济增长，进一步增强我国在信息化、智能制造等战略性新兴产业中的竞争力。
八、小结
通过制定和实施《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准，提出了智能主动运动控制平台的设计理念，使被动控制技术在工程应用中的载荷敏感性问题得到了改善，进一步提升了系统的自适应能力和控制精度。将为我国集成电路和半导体行业提供统一的技术规范，促进设备性能的提升和技术的自主创新，增强我国在全球半导体制造领域的竞争力。
由中国国际科技促进会归口管理，上海大学提出的《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》团体标准，于2025年9月1日正式发布实施，标准编号为T/CI 1158—2025。
二、标准制定背景
（1）国内半导体与微电子发展的需求
为了解决芯片卡脖子的问题，国内的半导体和微电子产业快速兴起，在这些领域中，光刻机起着极为关键作用。作为光刻机 "心脏"，纳米精度运动平台提供纳米级定位精度和亚毫秒级响应， 24 小时连续工作稳定性，避免机械振动影响光刻精度，洁净环境无颗粒污染的优点。可以更好的服务半导体与微电子制造领域。
（2）纳米精度运动平台技术的兴起
纳米精度运动平台的兴起契合制造业精密化、柔性化升级需求，凭借无接触、纳米级精度、多自由度运动等核心优势，从实验室逐步落地半导体光刻、医疗设备、新能源电池制造等高精尖领域。国内企业突破技术垄断实现商业化，在政策与资本加持下市场规模持续扩容，正从高端制造向更多场景渗透，成为智能制造的核心动力之一。
（3）市场需求与技术空白
随着纳米精度运动平台技术的广泛应用，市场上出现了多种不同行程、不同精度的纳米精度运动平台产品。纳米精度运动平台市场需求旺盛，尤其在半导体、医疗、新能源等高端制造领域，但核心技术仍受制于人。当前控制算法解耦、高精度检测和专用芯片是最主要技术空白，制约着国产化进程和市场渗透。
三、标准制定的必要性
纳米精度运动控制平台作为国家科技战略布局中的关键一环，已上升为国家的重要发展目标。研究表明，运动控制精度和稳定性往往是制约半导体制造业向更低纳米制程发展的核心因素。因此，研发高性能的纳米精度运动控制平台，对推动我国集成电路和半导体行业的技术进步具有重大意义。
为提高制造设备的定位精度和动态响应性能，以先进控制算法和高精度执行机构为核心的纳米精度运动控制平台应运而生，旨在为低纳米制程工艺的实现提供强有力的技术支撑。然而，目前针对综合高精度运动控制与先进控制技术的专利研究仍然较少。同时，国内现行的集成电路和半导体行业运动控制平台设计标准尚属空白。
因此，编制《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准，可以有效弥补现有标准中关于纳米精度运动控制平台设计和技术要求的缺失，为行业提供统一的技术规范，促进我国半导体设备的自主创新和技术升级，提升国际竞争力。
四、编制过程
（1）标准编制工作启动
在接到标准制定任务后，标准主起草单位结合前期调研成果，编制完成标准初稿，项目承担单位于2024年10月组织召开标准启动会议，成立标准编制工作组，明确各单位职责分工和人员安排，并制定详细的编制计划，全面启动标准编制工作。
（2）标准草案编写
2024年10月，召开第一次工作组会议，围绕标准初稿的适用范围、结构框架及技术条款进行集中研讨，初步确定标准草案的核心内容，会议期间及会后，各参编单位对标准文本进行了深入研究，提出修改意见或建议。在此基础上，主起草单位进一步开展调研工作，对标准草案进行修改完善。
（3）公开征求意见
2025年4月到5月在行业内公开征求意见，共收到7家单位的16条修改意见，全部采纳。据此对标准草案进行修改完善，形成送审稿。
（4）标准评审
2025年7月16日召开团体标准专家评审会，对标准送审稿进行审查，按照专家意见对标准草案和编制说明进行了修改完善，形成报批稿。
（5）标准报批发布
2025年9月1日正式发布实施，标准编号为T/CI 1158—2025。
五、标准主要内容
本标准依托上海大学力学与工程科学学院等技术团队，在中国国际科技促进会的指导下，联合进行研究与技术攻关，首先提出了智能主动运动控制平台的设计理念，在传统高刚度结构的基础上引入先进的控制算法和高精度传感器系统，进一步提升了系统的自适应能力和控制精度。
《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准的制定，填补了国内在半导体集成电路用运动控制平台设计方面的行业标准空白。标准内容基于团队多年技术积累与工程实践经验，充分体现了当前领域的最新研究成果与应用需求，确保了其先进性和可操作性。通过本标准的实施，将为我国集成电路和半导体行业提供统一的技术规范，促进设备性能的提升和技术的自主创新，增强我国在全球半导体制造领域的竞争力。
六、标准实施效果和意义
（1）纳米精度运动控制技术的实验验证
纳米精度运动控制技术已经在实验室进行了全工况测试，技术成熟度较高，可以作为未来技术发展的基础。在该项技术基础上，制成了首台多自由度纳米精度运动控制平台。经测试，该平台的定位精度可达纳米级别，动态响应速度快，稳定性良好，达到国际先进技术水平。对比现有产品，本项目产品在控制精度、高速响应和多自由度协调控制方面具有显著优势，能够在复杂的集成电路和半导体制造环境中稳定运行，显著提升了生产效率和产品质量。
（2）系统集成与兼容性
平台的模块化设计和易维护性使其在不同制造设备中的集成更加便捷，减少了设备的停机时间和维护成本。通过标准化的设计和技术要求，确保了不同设备之间的兼容性和一致性，进一步提升了整体生产线的协同效率和智能化水平。
（3）性能对比与市场竞争力
本项目产品控制精度高、响应速度快、稳定性强，具备良好的市场竞争力。通过与国内外同类产品的对比分析，发现本项目产品在纳米级定位精度、多自由度控制能力和系统稳定性方面均优于现有市场产品，填补了国内在高精度运动控制平台领域的技术空白，具有广阔的应用前景和市场潜力。
七、预期的经济效果
主要起草单位在光刻胶检测装置、曝光装置、封装光刻机等多个关键应用场景中成功应用并测试了纳米精度运动控制平台技术，深入探索并掌握了该技术的关键问题与参数，积累了丰富的实践经验。这些成果为制定《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准提供了坚实的技术基础和有力的参考依据。通过标准的实施，制造设备的定位精度和稳定性将显著提升，促进技术创新与自主研发，推动产业链上下游企业的协同发展，提升国产高精度运动控制设备的市场竞争力，扩大其在国内外市场的份额。同时，标准化的设计和技术要求将有效降低研发和生产成本，减少试错成本，提升生产效率，增强企业在全球半导体制造领域的竞争力。
此外，本标准的制定和推广将支持国家战略目标，推动我国半导体产业的技术进步和自主创新，减少对国外先进设备的依赖，提升国际市场话语权。通过规范产业发展和引领技术创新，促进相关科研机构和企业的技术交流与合作，加快科技成果的转化与应用，带动相关产业链的发展，创造可观的经济效益。这不仅有助于提升我国在全球半导体制造领域的地位，还将推动相关产业的可持续发展，实现高质量的经济增长，进一步增强我国在信息化、智能制造等战略性新兴产业中的竞争力。
八、小结
通过制定和实施《集成电路和半导体行业纳米精度运动控制平台设计及技术要求》标准，提出了智能主动运动控制平台的设计理念，使被动控制技术在工程应用中的载荷敏感性问题得到了改善，进一步提升了系统的自适应能力和控制精度。将为我国集成电路和半导体行业提供统一的技术规范，促进设备性能的提升和技术的自主创新，增强我国在全球半导体制造领域的竞争力。
